Produção e caracterização de filmes finos de TiO2, via técnica de deposição por camada atômica, visando a aplicações biomédicas

Com a existência recorrente de bactérias mais resistentes dentro de ambientes hospitalares, associada à imunidade reduzida dos pacientes que os torna mais propensos as infecções. Este trabalho teve como objetivo desenvolver a deposição de filmes finos de dióxido de titânio (TiO2) por meio da técnica de deposição por camada atômica (ALD) sobre a superfície de materiais amplamente utilizados em ambiente hospitalar, como o alumínio, o policloreto de vinila (PVC) e o poliuretano (PU). Para determinar a estrutura química do filme foram utilizadas as análises de Espectroscopia no Infravermelho por Transformada de Fourier (FTIR), com espectroscopia Raman e Espectroscopia por Energia Dispersiva (EDS), que indicaram a distribuição uniforme do filme de TiO2 na fase anatase. Para analisar a morfologia foram utilizadas a Microscopia Eletrônica de Varredura (MEV), a Microscopia de Força Atômica (AFM) e a perfilometria, que apresentaram uma morfologia granular e em placas. A espessura do filme foi determinada por perfilometria de contato utilizando um degrau entre o filme e o substrato e a fotomicrografia de um corte perpendicular ao filme. A aderência foi determinada pelo teste de fita e analisada pela técnica MEV-FEG e mapa de EDS, demonstrando uma boa aderência do filme. Para determinar a atividade biológica foram utilizados testes de viabilidade bacteriana e viabilidade celular, que demonstrou a eficiência do filme como bactericida sem apresentar toxicidade as células. Com base nos resultados obtidos o filme de TiO2 se mostrou muito promissor em ser utilizado para revestir dispositivos médicos e superfícies hospitalares como forma de reduzir a contaminação.