Produção e caracterização de filmes finos de TiO2, via técnica de deposição por camada atômica, visando a aplicações biomédicas
| dc.contributor.advisor | Vieira, Lúcia | |
| dc.contributor.author | Manfroi, Lucas Augusto | |
| dc.contributor.coadvisor | Lúcia | |
| dc.contributor.event2 | São José dos Campos | |
| dc.contributor.referee | Silva, Newton Soares da | |
| dc.contributor.referee | Ramirez Ramos, Marco Antonio | |
| dc.contributor.referee | Marques, Francisco das Chagas | |
| dc.contributor.referee | Sales, Rita de Cássia Mendonça | |
| dc.date.accessioned | 2025-01-06T13:34:10Z | |
| dc.date.available | 2025-01-06T13:34:10Z | |
| dc.date.issued | 2021-09-30 | |
| dc.description.abstract | Com a existência recorrente de bactérias mais resistentes dentro de ambientes hospitalares, associada à imunidade reduzida dos pacientes que os torna mais propensos as infecções. Este trabalho teve como objetivo desenvolver a deposição de filmes finos de dióxido de titânio (TiO2) por meio da técnica de deposição por camada atômica (ALD) sobre a superfície de materiais amplamente utilizados em ambiente hospitalar, como o alumínio, o policloreto de vinila (PVC) e o poliuretano (PU). Para determinar a estrutura química do filme foram utilizadas as análises de Espectroscopia no Infravermelho por Transformada de Fourier (FTIR), com espectroscopia Raman e Espectroscopia por Energia Dispersiva (EDS), que indicaram a distribuição uniforme do filme de TiO2 na fase anatase. Para analisar a morfologia foram utilizadas a Microscopia Eletrônica de Varredura (MEV), a Microscopia de Força Atômica (AFM) e a perfilometria, que apresentaram uma morfologia granular e em placas. A espessura do filme foi determinada por perfilometria de contato utilizando um degrau entre o filme e o substrato e a fotomicrografia de um corte perpendicular ao filme. A aderência foi determinada pelo teste de fita e analisada pela técnica MEV-FEG e mapa de EDS, demonstrando uma boa aderência do filme. Para determinar a atividade biológica foram utilizados testes de viabilidade bacteriana e viabilidade celular, que demonstrou a eficiência do filme como bactericida sem apresentar toxicidade as células. Com base nos resultados obtidos o filme de TiO2 se mostrou muito promissor em ser utilizado para revestir dispositivos médicos e superfícies hospitalares como forma de reduzir a contaminação. | |
| dc.description.abstract2 | Current existence of more resistant bacteria in hospital environments, associated with reduced immunity of patients that makes them more prone to infections. This work aimed to develop the deposition of thin films of titanium dioxide (TiO2) using the atomic layer deposition (ALD) technique on the surface of materials widely used in hospitals, such as aluminum, polyvinyl chloride (PVC) and polyurethane (PU). To determine the chemical structure of the film were used Fourier Transform Infrared Spectroscopy (FTIR) with Raman spectroscopy and Energy Dispersive Spectroscopy (EDS). The results indicated uniform distribution of the TiO2 film in the anatase phase. To analyze the morphology were used, Scanning Electron Microscopy (SEM), Atomic Force Microscopy (AFM) and profilometry. The results presented a granular and plate morphology. The film thickness was determined by contact profilometry using a step between the film and the substrate and a micrograph of a cross section of the film. The film adhesion was analysed using tape test and the MEV- FEG technique and EDS map and by sclerometry. The results demonstrating a good adhesion of the film. To determine the biological activity were used bacterial viability and cell viability tests, which demonstrated the efficiency of the film as a bactericide without cells toxicity. Based on the results obtained, the TiO2 film in anatase phase proved to be very promising material to be used as a to coat medical devices and hospital surfaces to reduce contamination. | |
| dc.description.physical | 93 f. | |
| dc.description.sponsorship | Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior (CAPES) | |
| dc.format.mimetype | ||
| dc.identifier.affiliation | Universidade do Vale do Paraíba | |
| dc.identifier.bibliographicCitation2 | MANFROI, Lucas Augusto. Produção e caracterização de filmes finos de TiO2, via técnica de deposição por camada atômica, visando a aplicações biomédicas. São José dos Campos, 2021. 93 f. Tese (Doutorado em Engenharia Biomédica) - Instituto de Pesquisa e Desenvolvimento, Universidade do Vale do Paraíba, São José dos Campos, 2021. | |
| dc.identifier.uri | https://repositorio.univap.br/handle/123456789/479 | |
| dc.language.iso | pt_BR | |
| dc.publisher.country | Brasil | |
| dc.publisher.initials | UNIVAP | |
| dc.publisher.institution | Universidade do Vale do Paraíba | |
| dc.publisher.program | doutorado em Engenharia Biomédica | |
| dc.publisher.spatial | São José dos Campos | |
| dc.subject.keyword | Dióxido de titânio | |
| dc.subject.keyword | Polímeros | |
| dc.subject.keyword | Alumínio | |
| dc.title | Produção e caracterização de filmes finos de TiO2, via técnica de deposição por camada atômica, visando a aplicações biomédicas | |
| dc.title.alternative | Production and characterization of TiO2 thin films, by atomic layer deposition technique, aiming at biomedical applications | |
| dc.type | Tese |